镜片镀膜机

真空镀膜机的几种镀膜方法？

真空镀膜技术，简单地来说就是在真空环境下，利用蒸发、溅射等方式发射出膜料粒子，沉积在金属、玻璃、陶瓷、半导体以及塑料件等物体上形成镀膜层。它的主要方法包括以下几种：
真空蒸镀
其原理是在真空条件下，用蒸发器加热膜料，使其气化或升华，蒸发粒子流直接射向基片，并在基片上沉积形成固态薄膜的技术。
溅射镀膜
溅射镀膜是真空条件下，在阴极接上高压电，激发辉光放电，带正电的氩离子撞击阴极靶材，使其射出膜料粒子，并沉积到基片上形成膜层。
离子镀膜
离子镀膜通常指在镀膜过程中会产生大量离子的镀膜方法。在膜的形成过程中，基片始终受到高能粒子的轰击，膜层强度和结合力非常强。
真空卷绕镀膜
真空卷绕镀膜是一种利用各种镀膜方法，在成卷的柔性薄膜表面上连续镀膜的技术，以实现柔性基体的一些特殊功能性、装饰性属性。

求镜片镀膜技术

真空镀膜 主要利用辉光放电(glow discharge)将氩气(Ar)离子撞击靶材(target)表面, 靶材的原子被弹出而堆积在基板表面形成薄膜。溅镀薄膜的性质、均匀度都比蒸镀薄膜来的好,但是镀膜速度却比蒸镀慢很多。新型的溅镀设备几乎都使用强力磁铁将电子成螺旋状运动以加速靶材周围的氩气离子化, 造成靶与氩气离子间的撞击机率增加, 提高溅镀速率。一般金属镀膜大都采用直流溅镀,而不导电的陶磁材料则使用RF交流溅镀,基本的原理是在真空中利用辉光放电(glow discharge)将氩气(Ar)离子撞击靶材(target)表面，电浆中的阳离子会加速冲向作为被溅镀材的负电极表面，这个冲击将使靶材的物质飞出而沉积在基板上形成薄膜。一般来说，利用溅镀制程进行薄膜披覆有几项特点：(1)金属、合金或绝缘物均可做成薄膜材料。(2)再适当的设定条件下可将多元复杂的靶材制作出同一组成的薄膜。(3)利用放电气氛中加入氧或其它的活性气体，可以制作靶材物质与气体分子的混合物或化合物。(4)靶材输入电流及溅射时间可以控制，容易得到高精度的膜厚。(5)较其它制程利于生产大面积的均一薄膜。(6)溅射粒子几不受重力影响，靶材与基板位置可自由安排。(7)基板与膜的附着强度是一般蒸镀膜的10倍以上，且由于溅射粒子带有高能量，在成膜面会继续表面扩散而得到硬且致密的薄膜，同时此高能量使基板只要较低的温度即可得到结晶膜。(8)薄膜形成初期成核密度高，可生产10nm以下的极薄连续膜。(9)靶材的寿命长，可长时间自动化连续生产。(10)靶材可制作成各种形状，配合机台的特殊设计做更好的控制及最有效率的生产。 光学镀膜 一、 耐磨损膜（硬膜） 无论是无机材料还是有机材料制成的眼镜片，在日常的使用中，由于与灰尘或砂砾（氧化硅）的摩擦都会造成镜片磨损，在镜片表面产生划痕。与玻璃片相比， 有机材料制成的硬性度比较低，更易产生划痕。通过显微镜，我们可以观察到镜片表面的划痕主要分为二种，一是由于砂砾产生的划痕，浅而细小，戴镜者不容易察觉；另一种是由较大砂砾产生的划痕，深且周边粗糙，处于中心区域则会影响视力。 （1）技术特征 1）第一代抗磨损膜技术 抗磨损膜始于20世纪70年代初，当时认为玻璃镜片不易磨制是因为其硬度高，而有机镜片则太软所以容易磨损。因此将石英材料于真空条件下镀在有机镜片表面，形成一层非常硬的抗磨损膜，但由于其热胀系数与片基材料的不匹配，很容易脱膜和膜层脆裂，因此抗磨损效果不理想。 2）第二代抗磨损膜技术 20世纪80年代以后，研究人员从理论上发现磨损产生的机理不仅仅与硬度相关，膜层材料具有“硬度/形变”的双重特性，即有些材料的硬度较高，但变形较小，而有些材料硬度较低，但变形较大。第二代的抗磨损膜技术就是通过浸泡工艺法在有机镜片的表面镀上一种硬度高且不易脆裂的材料。 3）第三代抗磨损膜技术 第三代的抗磨损膜技术是20世纪90年代以后发展起来的，主要是为了解决有机镜片镀上减反射膜层后的耐磨性问题。由于有机镜片片基的硬度和减反射膜层的硬度有很大的差别，新的理论认为在两者之间需要有一层抗磨损膜层，使镜片在受到砂砾磨擦时能起缓冲作用，并而不容易产生划痕。第三代抗磨损膜层材料的硬度介于减反射膜和镜片片基的硬度之间，其磨擦系数低且不易脆裂。 4）第四代抗磨损膜技术 第四代的抗膜技术是采用了硅原子，例如法国依视路公司的帝镀斯（TITUS）加硬液中既含有有机基质，又含有包括硅元素的无机超微粒物，使抗磨损膜具备韧性的同时又提高了硬度。现代的镀抗磨损膜技术最主要的是采用浸泡法，即镜片经过多道清洗后，浸入加硬液中，一定时间后，以一定的速度提起。这一速度与加硬液的黏度有关，并对抗磨损膜层的厚度起决定作用。提起后在100 °C左右的烘箱中聚合4－5小时，镀层厚约3－5微米。 （2）测试方法 判断和测试抗磨损膜耐磨性的最根本的方法是临床使用，让戴镜者配戴一段时间，然后用显微镜观察并比镜片的磨损情况。当然，这通常是在这一新技术正式推广前所采用的方法，目前我们常用的较迅速、直观的测试方法是： 1）磨砂试验 将镜片置于盛有砂砾的宣传品内（规定了砂砾的粒度和硬度)，在一定的控制下作来回磨擦。结束后用雾度计测试镜片磨擦前后的光线漫反射量，并且与标准镜片作比较。 2）钢丝绒试验 用一种规定的钢丝绒，在一定的压力和速度下，在镜片表面上磨擦一珲的次数，然后用雾度计测试镜片磨擦前后的光线漫反射量，并且与标准镜片作比较。当然，我们也可以手工操作，对二片镜片用同样的压力磨擦同样的次数，然后用肉眼观察和比较。 上述两种测试方法的结果与戴镜者长期配戴的临床结果比较接近。 3）减反射膜和抗磨损膜的关系 镜片表面的减反射膜层是一种非常薄的无机金属氧化物材料（厚度低于1微米），硬且脆。当镀于玻璃镜片上时，由于片基比较硬，砂砾在其上面划过，膜层相对不容易产生划痕；但是减反射膜镀于有机镜片上时，由于片基较软，砂砾在膜层上划过，膜层很容易产生划痕。 因此有机镜片在镀减反射膜前必须要镀抗磨损膜，而且两种膜层的硬度必须相匹配。 二、 减反射膜 （1）为什么需要镀减反射膜？ 1）镜面反射 光线通过镜片的前后表面时，不但会产生折射，还会产生反射。这种在镜片前表面产生的反射光会使别人看戴镜者眼睛时，看到的却是镜片表面一片白光。拍照时，这种反光还会严重影响戴镜者的美观。 2）"鬼影" 眼镜光学理论认为眼镜片屈光力会使所视物体在戴镜者的远点形成一个清晰的像，也可以解释为所视物的光线通过镜片发生偏折并聚集于视网膜上，形成像点。但是由于屈光镜片的前后表面的曲率不同，并且存在一定量的反射光，它们之间会产生内反射光。内反射光会在远点球面附近产生虚像，也就是在视网膜的像点附近产生虚像点。这些虚像点会影响视物的清晰度和舒适性。 3）眩光 象所有光学系统一样，眼睛并不完美，在视网膜上所成的像不是一个点，而是一个模糊圈。因此，二个相邻点的感觉是由二个并列的或多或少重叠的模糊圈产生的。只要二点之间的距离足够大，在视网膜上的成像就会产生二点的感觉，但是如果二点太接近，那么二个模糊圈会趋向与重合，被误认为是一个点。 对比度可以用来反映这种现象，表达视力的清晰度。对比值必须大于某一确定值（察觉阈，相当于1－2）才能够确保眼睛辨别二个邻近点。 对比度的计算公式为：D＝（a-b)/(a+b) 其中C为对比度，二个相邻物点在视网膜上所成像的感觉最高值为a,相邻部份的最低值为b。如果对比度C值越高，说明视觉系统对该二点的分辨率越高，感觉越清晰；如果二个物点非常接近，它们的相邻部分的最低值比较接近于最高值，则C值低，说明视觉系统对该二点感到不清晰，或不能清晰分辨。 让我们来模拟这样一个场景产：夜晚，一位戴眼镜的驾车者清晰地看见对面远处有二辆自行车正冲着他的车骑过来。此时，尾随其后的汽车的前灯在驾车者镜片后表面上产生反射：该反射光在视网膜上形成的像增加了二个被观察点的强度（自行车车灯）。所以，a段和b段的长度增加，即然分母(a+b)增加，而分子（a-b)保持不变，于是就引起了C值的减少。对比减小的结果会令驾驶员最初产生的存在二个骑车人的感觉重合成为单一的像，就好比区分它们的角度被突然减小！ 4）透过量 反射光占入射光的百分比取决于镜片材料的折射率，可通过反射量的公式进行计算。 反射量公式：R＝（n-1)平方/(n+1)平方 R：镜片的单面反射量 n：镜片材料的折射率 例如普通树脂材料的折射率为1.50，反射光R＝（1.50－1）平方/（1.50＋1）平方＝0.04＝4%。 镜片有两个表面，如果R1为镜片前表面的量，R2为镜片后表面的反射量，则镜片的总反射量R＝R1＋R2。（计算R2的反射量时，入射光为100%－R1）。镜片的透光量T＝100%-R1-R2。 由此可见，高折射率的镜片如果没有减反射膜，反射光会对戴镜者带来的不适感比较强烈。 （2）原理 减反射膜是以光的波动性和干涉现象为基础的。二个振幅相同，波长相同的光波叠加，那么光波的振幅增强；如果二个光波原由相同，波程相差，如果这二个光波叠加，那么互相抵消了。减反射膜就是利用了这个原理，在镜片的表面镀上减反射膜，使得膜层前后表面产生的反射光互相干扰，从而抵消了反射光，达到减反射的效果。 1）振幅条件 膜层材料的折射率必须等于镜片片基材料折射率的平方根。 2）位相条件 膜层厚度应为基准光的1/4波长。d=λ/4 λ=555nm时，d=555/4=139nm 对于减反射膜层，许多眼镜片生产商采用人眼敏感度较高的光波（波长为555nm)。当镀膜的厚度过薄（〈139nm),反射光会显出浅棕黄色，如果呈蓝色则表示镀膜的厚度过厚（ 〉139nm）。 镀膜反射膜层的目的是要减少光线的反射，但并不可能做到没有反射光线。镜片的表面也总会有残留的颜色，但残留颜色哪种是最好的，其实并没有标准，目前主要是以个人对颜色的喜好为主，较多为绿色色系。 我们也会发现残留颜色在镜片凸面与凹面的曲率不同也使镀膜的速度不同，因此在镜片中央部分呈绿色，而在边缘部分则为淡紫红色或其它颜色。 3）镀减反射膜技术 有机镜片镀膜的难度要比玻璃镜片高。玻璃材料能够承受300 °C以上的高温，而有机镜片在超过100 °C时便会发黄，随后很快分解。 可以用于玻璃镜片的减反射膜材料通常采用氟化镁（MgF2），但由于氟化镁的镀膜工艺必须在高于200°C的环境下进行，否则不能附着于镜片的表面，所以有机镜片并不采用它。 20世纪90年代以后，随着真空镀膜技术的发展，利用离子束轰击技术，使得膜层与镜片的结合，膜层间的结合得到了改良。而且提炼出的象氧化钛，氧化锆等高纯度金属氧化物材料可以通过蒸发工艺镀于树脂镜片的表面，达到良好的减反射效果。 以下对有机镜片的减反射膜镀膜技术作一介绍。 1）镀膜前的准备 镜片在接受镀膜前必须进行预清洗，这种清洗要求很高，达到分子级。在清洗槽中分别放置各种清洗液，并采用超声波加强清洗效果，当镜片清洗完后，放进真空舱内，在此过程中要特别注意避免空气中的灰尘和垃圾再黏附在镜片表面。最后的清洗是在真空舱内，在此过程中要特别注意避免空气中的灰尘和垃圾再黏附在镜片表面。最后的清洗是在真空舱内镀前进行的，放置在真空舱内的离子枪将轰击镜片的表面（例如用氩离子），完成此道清洗工序后即进行减反射膜的镀膜。 2）真空镀膜 真空蒸发工艺能够保证将纯质的镀膜材料镀于镜片的表面，同时在蒸发过程中，对镀膜材料的化学成分能严密控制。真空蒸发工艺能够对于膜层的厚度精确控制，精度达到。 3）膜层牢固性 对眼镜片而言，膜层的牢固性是至关重要的，是镜片重要的质量指标。镜片的质量指标包括镜片抗磨损、抗文化馆、抗温差等。因此现在有了许多针对性的物理化学测试方法，在模拟戴镜者的使用条件下，对镀膜镜片进行膜层牢度质量的测试。这些测试方法包括：盐水试验、蒸汽试验、去离子水试验、钢丝绒磨擦试验、溶解试验、黏着试验、温差试验和潮湿度试验等等。 三、 抗污膜（顶膜） （1）原理 镜片表面镀有多层减反射膜后，镜片特别容易产生污渍，而污渍会破坏减反射膜的减反射效果。在显微镜下，我们可以发现减反射膜层呈孔状结构，所以油污特别容易浸润至减反射膜层。解决的方法是在减反射膜层上再镀一层具有抗油污和抗水性能的顶膜，而且这层膜必须非常薄，以使其不会改变减反射膜的光学性能。 （2）工艺 抗污膜的材料以氟化物为主，有二种加工方法，一种是浸泡法，一种是真空镀膜，而最常见的方法是真空镀膜。而最常用的方法是真空镀膜。当减反射膜层完成后，可使用蒸发工艺将氟化物镀于反射膜上。抗污膜可将多孔的减反射膜层覆盖起来，并且能够将水和油与镜片的接触面积减少，使油和水滴不易粘附于镜片表面，因此也称为防水膜。 对于有机镜片而言，理想的表面系统处理应该是包括抗磨损膜、多层减反射膜和顶膜抗污膜的复合膜。通常抗磨损膜镀层最厚，约为3－5mm，多层减反射膜的厚度约为0.3um，顶层抗污腊镀最薄，约为0.005－0.01mm。以法国依视路公司的钻晶（crizal)，复合膜为例，在镜片的片基上首先镀上具有有机硅的耐磨损膜；然后采用IPC的技术，用离子轰击进行镀减反射膜前的预清洗；清洗后采用高硬度的二氧化锆（ZrO2)等材料进行多层减反射膜层的真空镀制；最后再镀上具有110的接触角度的顶膜。钻晶复合膜技术的研制成功表明了有机镜片的表面处理技术达到了一个新的高度。

什么是真空镀膜技术？

所谓真空镀膜就是置待镀材料和被镀基板于真空室内，采用一定方法加热待镀材料，使之蒸发或升华，并飞行溅射到被镀基板表面凝聚成膜的工艺。\x0d\x0a一、镀膜的方法及分类\x0d\x0a在真空条件下成膜有很多优点：可减少蒸发材料的原子、分子在飞向基板过程中于分子的碰撞，减少气体中的活性分子和蒸发源材料间的化学反应（如氧化等），以及减少成膜过程中气体分子进入薄膜中成为杂质的量，从而提供膜层的致密度、纯度、沉积速率和与基板的附着力。通常真空蒸镀要求成膜室内压力等于或低于10-2Pa，对于蒸发源与基板距离较远和薄膜质量要求很高的场合，则要求压力更低。\x0d\x0a主要分为一下几类：\x0d\x0a蒸发镀膜、溅射镀膜和离子镀。\x0d\x0a 蒸发镀膜：通过加热蒸发某种物质使其沉积在固体表面，称为蒸发镀膜。这种方法最早由M.法拉第于1857年提出，现代已成为常用镀膜技术之一。\x0d\x0a 蒸发物质如金属、化合物等置于坩埚内或挂在热丝上作为蒸发源，待镀工件，如金属、陶瓷、塑料等基片置于坩埚前方。待系统抽至高真空后，加热坩埚使其中的物质蒸发。蒸发物质的原子或分子以冷凝方式沉积在基片表面。薄膜厚度可由数百埃至数微米。膜厚决定于蒸发源的蒸发速率和时间（或决定于装料量），并与源和基片的距离有关。对于大面积镀膜，常采用旋转基片或多蒸发源的方式以保证膜层厚度的均匀性。从蒸发源到基片的距离应小于蒸气分子在残余气体中的平均自由程，以免蒸气分子与残气分子碰撞引起化学作用。蒸气分子平均动能约为0.1～0.2电子伏。\x0d\x0a 蒸发源有三种类型。①电阻加热源：用难熔金属如钨、钽制成舟箔或丝状,通以电流,加热在它上方的或置于坩埚中的蒸发物质（图1[蒸发镀膜设备示意图]）电阻加热源主要用于蒸发Cd、Pb、Ag、Al、Cu、Cr、Au、Ni等材料。②高频感应加热源：用高频感应电流加热坩埚和蒸发物质。③电子束加热源：适用于蒸发温度较高（不低于2000[618-1]）的材料，即用电子束轰击材料使其蒸发。\x0d\x0a 蒸发镀膜与其他真空镀膜方法相比，具有较高的沉积速率，可镀制单质和不易热分解的化合物膜。\x0d\x0a 为沉积高纯单晶膜层，可采用分子束外延方法。生长掺杂的GaAlAs单晶层的分子束外延装置如图2[ 分子束外延装置示意图]。喷射炉中装有分子束源，在超高真空下当它被加热到一定温度时，炉中元素以束状分子流射向基片。基片被加热到一定温度，沉积在基片上的分子可以徙动，按基片晶格次序生长结晶用分子束外延法可获得所需化学计量比的高纯化合物单晶膜，薄膜最慢生长速度可控制在1单层／秒。通过控制挡板,可精确地做出所需成分和结构的单晶薄膜。分子束外延法广泛用于制造各种光集成器件和各种超晶格结构薄膜。\x0d\x0a 溅射镀膜：用高能粒子轰击固体表面时能使固体表面的粒子获得能量并逸出表面，沉积在基片上。溅射现象于1870年开始用于镀膜技术，1930年以后由于提高了沉积速率而逐渐用于工业生产。常用的二极溅射设备如图3[ 二极溅射示意图]。通常将欲沉积的材料制成板材——靶,固定在阴极上。基片置于正对靶面的阳极上,距靶几厘米。系统抽至高真空后充入 10-1帕的气体（通常为氩气），在阴极和阳极间加几千伏电压，两极间即产生辉光放电。放电产生的正离子在电场作用下飞向阴极，与靶表面原子碰撞，受碰撞从靶面逸出的靶原子称为溅射原子,其能量在1至几十电子伏范围。溅射原子在基片表面沉积成膜。与蒸发镀膜不同，溅射镀膜不受膜材熔点的限制,可溅射W、Ta、C、Mo、WC、TiC等难熔物质。溅射化合物膜可用反应溅射法，即将反应气体 (O、N、HS、CH等)加入Ar气中,反应气体及其离子与靶原子或溅射原子发生反应生成化合物（如氧化物、氮化物等）而沉积在基片上。沉积绝缘膜可采用高频溅射法。基片装在接地的电极上，绝缘靶装在对面的电极上。高频电源一端接地，一端通过匹配网络和隔直流电容接到装有绝缘靶的电极上。接通高频电源后，高频电压不断改变极性。等离子体中的电子和正离子在电压的正半周和负半周分别打到绝缘靶上。由于电子迁移率高于正离子，绝缘靶表面带负电，在达到动态平衡时，靶处于负的偏置电位，从而使正离子对靶的溅射持续进行。采用磁控溅射可使沉积速率比非磁控溅射提高近一个数量级。\x0d\x0a 离子镀：蒸发物质的分子被电子碰撞电离后以离子沉积在固体表面，称为离子镀。这种技术是D.麦托克斯于1963年提出的。离子镀是真空蒸发与阴极溅射技术的结合。一种离子镀系统如图4[离子镀系统示意图],将基片台作为阴极，外壳作阳极，充入惰性气体（如氩）以产生辉光放电。从蒸发源蒸发的分子通过等离子区时发生电离。正离子被基片台负电压加速打到基片表面。未电离的中性原子（约占蒸发料的95％）也沉积在基片或真空室壁表面。电场对离化的蒸气分子的加速作用（离子能量约几百～几千电子伏）和氩离子对基片的溅射清洗作用，使膜层附着强度大大提高。离子镀工艺综合了蒸发（高沉积速率）与溅射（良好的膜层附着力）工艺的特点，并有很好的绕射性，可为形状复杂的工件镀膜。\x0d\x0a二、薄膜厚度的测量\x0d\x0a随着科技的进步和精密仪器的应用，薄膜厚度测量方法有很多，按照测量的方式分可以分为两类：直接测量和间接测量。直接测量指应用测量仪器，通过接触（或光接触）直接感应出薄膜的厚度。\x0d\x0a常见的直接法测量有：螺旋测微法、精密轮廓扫描法（台阶法）、扫描电子显微法（SEM）；\x0d\x0a间接测量指根据一定对应的物理关系，将相关的物理量经过计算转化为薄膜的厚度，从而达到测量薄膜厚度的目的。\x0d\x0a常见的间接法测量有：称量法、电容法、电阻法、等厚干涉法、变角干涉法、椭圆偏振法。按照测量的原理可分为三类：称量法、电学法、光学法。\x0d\x0a常见的称量法有：天平法、石英法、原子数测定法；\x0d\x0a常见的电学法有：电阻法、电容法、涡流法；\x0d\x0a常见的光学方法有：等厚干涉法、变角干涉法、光吸收法、椭圆偏振法。\x0d\x0a下面简单介绍三种：\x0d\x0a1. 干涉显微镜法\x0d\x0a干涉条纹间距Δ0，条纹移动Δ，台阶高为t=(Δ/Δ0 )*0.5λ，测出Δ0 和Δ，即可，其中λ为单色光波长，如用白光，λ取 530nm。\x0d\x0a \x0d\x0a2. 称重法\x0d\x0a 如果薄膜面积A，密度ρ和质量m可以被精确测定的话，膜厚t就可以计算出来：\x0d\x0ad=m/Aρ。\x0d\x0a3 石英晶体振荡器法\x0d\x0a 广泛应用于薄膜淀积过程中厚度的实时测量，主要应用于淀积速度，厚度的监测，还可以反过来（与电子技术结合）控制物质蒸发或溅射的速率，从而实现对于淀积过程的自动控制。\x0d\x0a对于薄膜制造商而言，产品的厚度均匀性是最重要的指标之一，想要有效地控制材料厚度，厚度测试设备是必不可少的，但是具体要选择哪一类测厚设备还需根据软包材的种类、厂商对厚度均匀性的要求、以及设备的测试范围等因素而定。\x0d\x0a三、真空镀膜机保养知识：\x0d\x0a1. 关闭泵加热系统，然后分离蒸镀室（主要清洁灰尘，于蒸镀残渣）\x0d\x0a2. 关闭电源或程序打入维护状态\x0d\x0a3. 清洁卷绕系统（几个滚轴，方阻探头，光密度测量器）\x0d\x0a4. 清洁中罩室（面板四周）\x0d\x0a5. 泵系统冷却后打开清洁（注意千万不能掉入杂物，检查泵油使用时间与量计做出更换或添加处理）\x0d\x0a6. 检查重冷与电气柜设备\x0d\x0a这次实习给了我们了解了镀膜技术的原理、技术，使我们了解了工厂的生产，感觉很新颖，收获很多。

镜头上的镀膜的原理是怎样的？

镜头上的镀膜（增透膜）其原理这样的。

光具有波粒二相性，即从微观上既可以把它理解成一种波、又可以把他理解成一束高速运动的粒子（注意，这里可千万别把它理解成一种简单的波和一种简单的粒子。它们都是微观上来讲的。 红光波的波长=0.750微米 紫光波长=0.400微米。 而一个光子的质量是 6.63E-34 千克. 如此看来他们都远远不是我们所想想的那种宏观波和粒子.) 增透膜的原理是把光当成一种波来考虑的，因为光波和机械波一样也具有干涉的性质。
在镜头前面涂上一层增透膜(一般是"氟化钙",微溶于水),如果膜的厚度等于红光（注意：这里说的是红光）在增透膜中波长的四分之一时,那么在这层膜的两侧反射回去的红光就会发生干涉,从而相互抵消,你在镜头前将看不到一点反光,因为这束红光已经全部穿过镜头了.
你可能感到不解了,为什么我从来没有看到没有反光的镜头? 原因很简单,因为可见光有“红、橙、黄、绿、蓝、靛、紫”七种颜色，而膜的厚度是唯一的，所以只能照顾到一种颜色的光让它完全进入镜头，一般情况下都是让绿光全部进入的，这种情况下，你在可见光中看到的镜头反光其颜色就是蓝紫色，因为这反射光中已经没有了绿光。这一点你看看我们的那些破国产头就知道了。当然，膜的厚度也可以根据镜头的色彩特性来决定。
至于进口镜头的多层镀膜我不知道他们的技术秘密，如果我知道，我想我也不会在这里呆着了。不过基本原理是一样的。

摄影镜头上的镀膜的作用是什么?

摄影镜头上的镀膜的作用是减少光线反射，增强光线透穿率。镀膜主要是为了减少反射。为了提高镜头的透光率和影像的质量，在现代镜头制造工艺上都要对镜头进行镀膜。镜头的镀膜是根据光学的干涉原理，在镜头表面镀上一层厚度为四分之一波长的物质(通常为氟化物)，使镜头对这一波长的色光的反射降至最低。扩展资料当光线进入不同传递物质时（如由空气进入玻璃），大约有5% 会被反射掉，在光学瞄准镜中有许多透镜和折射镜，整个加起来可以让入射光线损失达30%至40%。现代光学透镜通常都镀有单层或多层氟化镁的增透膜，单层增透膜可使反射减少至 1.5%，多层增透膜则可让反射降低至 0.25%，所以整个瞄准镜如果加以适当镀膜，光线透穿率可达 95%。镀了单层增透膜的镜片通常是蓝紫色或是红色，镀多层增透膜的镜片则呈淡绿色或暗紫色 。镜头结构：1、 采用镜片数目：多类型镜片组合，可减少色偏改善聚焦等问题，但会减少透光率。2、 镜片透光率：好镜片透光率佳价格贵，差镜片较会阻挡光线通过。3、镀膜与研磨：镜片镀膜与研磨技术影响镜片品质。4、机械装置：镜头内部机械结构精密度，影响镜片移动精确度及可靠度，品质差机械结构，会产生调整误差及不一致性。参考资料来源：百度百科-镜头百度百科-镀膜

各位前辈，搞光学镀膜与光学设计哪个更好？从工作收入与工作环境等方面考虑。

根据目前的科技发展前景，应该说是光学设计和光学镀膜各有千秋。
1、光学设计：更多的物理学
2、光学镀膜，更多的是化学
其中多数情况下光学设计是光学镀膜的前一个工序，根据个人的看法，如果非要选择一个的话，建议先选择光学设计，工作一段时间以后，再从事光学镀膜。你要记住，目前虽然数码相机市场很大，但是最挣钱的还是单反相机，而单反相机的价格和利润都很高。
以上仅仅代表个人看法，希望对你有帮助！

万新光学集团的万新集团成员

万新光学自2011年实施集团化战略以来，集团成员单位不断完善产品结构，为消费者提供日臻完美的产品体验。万新系列品牌：批量片（宝士杰、银河、依格尔、威斯马、美高旗等）车房片青少年近视控制解决方案（“好未来”青少年渐进片、CME减负镜）成人功能镜片解决方案 （光变视变色片、染色片、偏光片）40岁以上人群解决方案 （PrecisionFocus 、万阅成人渐进、 双光）视力矫正标准解决方案 （绿适抗疲劳片、单光、莱宝膜）特殊镜片解决方案 （帽子镜、车房加工、高难高散定制）柯达镜片系列品牌：Single Vision单光系列车房定制系列（Unique成人渐进、Easy成人渐进、Antifatigue抗疲劳镜片、Kidz青少年渐进）恒典系列品牌批量镜片 （六月六、好可视、奥视达、镜道、地平线、斯巴达克等）车房定制镜片（青少年渐进片、变色片、染色片、抗疲劳、渐进片、内渐进）镇江万新光学眼镜有限公司镇江万新光学眼镜有限公司成立于1974年，拥有固定资产8000万元，2011年，年产纯钛眼镜架、蒙乃尔合金眼镜架、普通镜架300多万副，2012年预计目标完成销售6000万元。镇江万新专业生产镜架39年，镜架以其舒适、时尚的佩戴效果畅销国际市场。目前已形成了眼镜架系列、眼镜零部件、电镀、眼镜检测等一条龙生产和服务体系。板材架系列：不张扬，却含蓄的表露自己的色彩新主张。高品质加工的材料，确保了配戴者的舒适感，不会产生过敏反应。在设计中，融合合金材料的组合，金属质感和板材的厚重，无一不透露出万新板材系列的经典时尚！记忆架系列：具备弹性极强、重量轻、极强耐腐蚀性特点，集记忆合金架设计之精华，镜腿部分采用可塑性极强的记忆合金材料，镜脚造型采用立体结构设计，极富时尚前卫气息，高品质色彩充分凸显脸部完美曲线。不锈钢架系列：选用高品质不锈钢和多种合金材料相结合，其表面电镀工艺精湛不易褪色，款式优雅、新颖，配戴舒适，在设计上，充分体现其精巧，优雅的个性，文静中不失个性的宣扬，色彩淡雅，透露着对生活高品质的追求。钝钛眼镜架系列：以精湛的工艺，塑造其成熟稳健的品质。钛架的轻巧钢韧，灵感涌动的设计流露出其名门风范，充分体现了配戴者的内涵与品位。钛架的耐腐蚀性和良好的可塑性，配合先进的加工技术，塑造了纯钛系列眼镜的优秀品质。合金架系列：表面经过特殊处理，其颜色色泽鲜嫩，多种色彩的合金架可根据不同的颜色配置太阳镜片，为您量身定做您的色彩时尚！太阳镜架系列：风格简单明了，沉稳中不幽默的风格，整个系列以金色和黑色为主打，平静中不失典雅气质。中性的设计风格，适合不同类型的男女配戴，体现出现代男女的时尚与前卫风格！儿童眼镜架系列：是设计师根据儿童心理需求专门设计的，其款式丰富多彩，设计元素融入人体工学技术,镜架符合儿童的脸型，配戴舒适，在运动中不易掉落。并且采用儿童喜欢的色彩元素。为儿童的生活增添斑斓色彩！

万新光学集团有限公司电话是多少？

万新光学集团有限公司联系方式：公司电话0511-86208007，公司邮箱646301568@qq.com，该公司在爱企查共有11条联系方式，其中有电话号码6条。公司介绍：万新光学集团有限公司是2008-06-30在江苏省镇江市丹阳市成立的责任有限公司，注册地址位于丹阳市司徒镇丹伏路188号。万新光学集团有限公司法定代表人汤龙保，注册资本15,000万(元)，目前处于开业状态。通过爱企查查看万新光学集团有限公司更多经营信息和资讯。

光学镀膜对人体有什么危害?

太阳能真空管有镀铝、镀铜、镀不锈钢的，这些蒸镀能产生蒸汽，继而产生粉尘，大量吸入金属粉尘对身体是不好的。

粉尘粒子的大小、暴露量和暴露时间是影响尘肺发生的重要因素。同一种金属粉尘，其粒径愈小，在空气中悬浮的时间就愈长，粒径在，～29m左右的粉尘，可较长时间悬浮在空气中，被机体吸人肺内的机会就愈多，致病性愈大。一定量的粉尘产生—一定量的组织反应。Nagel schmidt通过对金属矿山工人尘肺病理解剖材料分析，认为肺内粉尘量在4g以下时不会引起尘肺，增加到58可产生I级矽肺，68时可患Ⅱ级矽肺，7g患Ⅲ级矽肺。而在铁矿的工人肺内如有20g铁尘时不会发生铁尘肺，50s则可引起Ⅱ级铁矽肺，602发生Ⅲ级铁矽肺。

染尘量大，病变典型且出现早。粉尘的吸入浓度和暴露时间也直接影响尘肺的病变形成和形态特点。短期吸入高浓度石英尘可产生急进型矽肺，病理上以典型结节型矽肺为特点；长期吸人低浓度石英尘则产生进展缓慢的弥漫性间质硬化型矽肺。
目前认为职业性接触的金属粉尘有铝、铍、锡、锑、钡、铜、钻、镍、铁、钛等30多种，其中有近20多种粉尘可造成职业性危害。长期接触这种金属粉尘的工人，易发生支气臂哮喘、气管和支气管炎、急慢性肺炎、肺水肿、肺气肿、肺肉芽肿病变、慢性非特异性肺病、肺纤维化和肺癌等病变。
由于吸入金属粉尘，井长期沉积在肺内而引起肺组织不同程度纤维组织增生性的改变称为金属尘肺。过去曾把某些致肺纤维化能力较弱(或很弱)的金属粉尘看作是“惰性粉尘”，其引起的肺部改变为“良性尘肺”，认为不致肺组织纤维化反应。然而，近几十年来随着人体病理材料的积累和动物实验研究的深入，以及分析手段的发展，曾被认为是不致肺纤维化的金属粉尘(如金属铝或氧化铝、电焊烟尘等)已在人肺或动物的肺组织得到证明能产生不同程度的肺纤维化。

由此可见，关键还是吸入量大小和持续吸入时间长短的问题，不长期接触，同时多吃猪血，木耳等能洗肺的食物，半年一次对肺部的检查和清洗，就可以解决问题

真空镀膜设备原理

磁控溅射原理
电子在电场的作用下加速飞向基片的过程中与氩原子发生碰撞，电离出大量的氩离子和电子，电子飞向基片。氩离子在电场的作用下加速轰击靶材，溅射出大量的靶材原子，呈中性的靶原子（或分子）沉积在基片上成膜。二次电子在加速飞向基片的过程中受到磁场洛仑磁力的影响，被束缚在*近靶面的等离子体区域内，该区域内等离子体密度很高，二次电子在磁场的作用下围绕靶面作圆周运动，该电子的运动路径很长，在运动过程中不断的与氩原子发生碰撞电离出大量的氩离子轰击靶材，经过多次碰撞后电子的能量逐渐降低，摆脱磁力线的束缚，远离靶材，最终沉积在基片上。
磁控溅射就是以磁场束缚和延长电子的运动路径，改变电子的运动方向，提高工作气体的电离率和有效利用电子的能量。
电子的归宿不仅仅是基片，真空室内壁及靶源阳极也是电子归宿。但一般基片与真空室及阳极在同一电势。磁场与电场的交互作用（E X B shift）使单个电子轨迹呈三维螺旋状，而不是仅仅在靶面圆周运动。至于靶面圆周型的溅射轮廓，那是靶源磁场磁力线呈圆周形状形状。磁力线分布方向不同会对成膜有很大关系。
在E X B shift机理下工作的不光磁控溅射，多弧镀靶源，离子源，等离子源等都在次原理下工作。所不同的是电场方向，电压电流大小而已。